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所 在 地成都市
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更新時(shí)間:2023-11-13 11:24:59瀏覽次數(shù):372次
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成都真空設(shè)備廠家 Research桌面真空鍍膜機(jī)
成都真空設(shè)備廠家 Research-磁控濺射鍍膜機(jī)
成都真空設(shè)備廠家 CJC系列磁控濺射鍍膜機(jī)
1. 主體:全封閉框架結(jié)構(gòu),真空室為前開門方式,機(jī)柜和主機(jī)為一體式機(jī)構(gòu)。采用優(yōu)質(zhì)0Cr18Ni9不銹鋼材料(SUS304),箱體尺寸為不小于φ350X400mm。設(shè)置DN100觀察窗口,位于真空腔體門正前方,骨架默認(rèn)白色(或鋁合金本色),門板為白色,四只腳輪,可固定,可移動(dòng)。室體、真空機(jī)組、磁控靶等有斷水報(bào)警鎖定安全裝置,能夠防止停水后出現(xiàn)安全隱患。
2. 真空系統(tǒng):
2.1極限真空度:≤6.63×10-4Pa(空載、經(jīng)充分烘烤除氣并充干燥氮?dú)猓?/p>
2.2真空配置:高速直聯(lián)旋片泵一臺(tái),抽速大于6L/S,超高分子泵一臺(tái),抽速600L/s。
2.3真空測(cè)量:兩路電阻規(guī),一路電離規(guī);對(duì)真空室和真空管道分別精確監(jiān)控,帶數(shù)據(jù)通訊。
3. 工件架系統(tǒng):?jiǎn)喂の?英寸工件盤,工件盤可加熱至500攝氏度,工件架真空室底部安裝,便于更換基片,轉(zhuǎn)速3~30rpm。
4. 照明裝置:照明裝置1套。
5. 磁控濺射系統(tǒng):配置2-3個(gè)Φ50mm磁控靶,安裝于真空室頂部,向下濺射成膜。
6.充氣系統(tǒng):二路分別配置質(zhì)量流量控制器,分別為0-100SCCM 1只,0-200SCCM1只,準(zhǔn)確度±1% F.S,線性±0.5 % F.S,重復(fù)精度±0.2% F.S。
7.循環(huán)冷卻水路:配置冷水機(jī)組與空壓機(jī)。
8.電氣控制系統(tǒng):采用功能化模塊設(shè)計(jì)方式,匹配西門子控制單元和MCGS人機(jī)界面,實(shí)現(xiàn)真空系統(tǒng)的自動(dòng)控制,基本工作單元的控制,安全報(bào)警及故障信息顯示,并通過(guò)文字方式提示,軟件的功能和模塊可以根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行單列或合并,但不得減少功能。
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