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  • SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)

    SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶(hù)獲得干凈的晶圓片和掩模版...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/12/8 14:09:55 對(duì)比
    晶圓清洗設(shè)備晶圓清洗機(jī)硅片清洗設(shè)備硅片清洗機(jī)進(jìn)口清洗機(jī)
  • NTE-4000（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)

    NTE-4000（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/12/8 14:09:20 對(duì)比
    蒸發(fā)鍍膜設(shè)備熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)蒸鍍?cè)O(shè)備真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)
  • NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達(dá)到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，J限真...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/12/7 10:48:18 對(duì)比
    磁控濺射系統(tǒng)磁控濺射設(shè)備磁控濺射鍍膜設(shè)備磁控濺射儀
  • NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可達(dá)1...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/12/7 10:47:05 對(duì)比
    pecvd設(shè)備ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積
  • NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達(dá)8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，可支持4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，J限真空可達(dá)1...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/12/6 11:12:50 對(duì)比
    磁控濺射系統(tǒng)磁控濺射設(shè)備磁控濺射鍍膜設(shè)備磁控濺射儀
  • NRE-3500（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

    NRE-3500（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)概述：獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/12/6 11:12:29 對(duì)比
    反應(yīng)離子刻蝕機(jī)rie刻蝕刻蝕機(jī)刻蝕設(shè)備
  • NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備

    NLD-3500(A)全自動(dòng)原子層沉積設(shè)備概述：原子層沉積是一項(xiàng)沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用。ALD原子層沉積可以滿足較精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/12/6 11:11:41 對(duì)比
    ald原子層沉積原子層沉積設(shè)備原子層沉積系統(tǒng)薄膜沉積系統(tǒng)
  • NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕

    NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕產(chǎn)品概述：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/12/6 11:11:19 對(duì)比
    ibe離子束刻蝕離子束刻蝕刻蝕機(jī)刻蝕設(shè)備
  • NEE-4000（A）全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)

    NEE-4000（A）全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置，其中樣品臺(tái)位于主腔體內(nèi)，二級(jí)腔體則用于安置...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/11/18 14:26:22 對(duì)比
    電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)蒸發(fā)鍍膜設(shè)備電子束蒸發(fā)臺(tái)
  • NPE-4000 ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000 ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER ICPECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/11/18 14:25:48 對(duì)比
    pecvd設(shè)備ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積
  • NPD-4000（M）PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)

    NPD-4000（M）PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)機(jī)制：PLD的系統(tǒng)設(shè)備簡(jiǎn)單，相反，它的原理卻是非常復(fù)雜的物理現(xiàn)象。它涉及高能量脈沖輻射沖擊固體靶時(shí)，激光與物質(zhì)之間的...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/11/18 14:25:04 對(duì)比
    pldpld脈沖激光沉積脈沖激光沉積設(shè)備脈沖激光沉積系統(tǒng)
  • NRE-4000（M）反應(yīng)離子刻蝕

    NRE-4000（M）反應(yīng)離子刻蝕概述：NRE-4000是一款獨(dú)立式RIE系統(tǒng)，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/11/18 14:24:38 對(duì)比
    反應(yīng)離子刻蝕機(jī)rie刻蝕刻蝕機(jī)刻蝕設(shè)備
  • NRE-4000（ICPM）ICP刻蝕機(jī)

    NRE-4000（ICPM）ICP刻蝕機(jī)概述：是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果?？蓪?shí)現(xiàn)范圍廣泛的刻蝕...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/11/18 14:24:17 對(duì)比
    icp刻蝕刻蝕機(jī)刻蝕設(shè)備
  • NRE-4000型RIE-PE刻蝕機(jī)

    NRE-4000型RIE-PE刻蝕機(jī)概述：NRE-4000是一款獨(dú)立式PE刻蝕RIE刻蝕一體機(jī)，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/11/18 14:23:51 對(duì)比
    反應(yīng)離子刻蝕機(jī)等離子刻蝕刻蝕機(jī)刻蝕設(shè)備
  • NRE-3500型RIE-PE刻蝕機(jī)

    NRE-3500型RIE-PE刻蝕機(jī)概述：獨(dú)立式RIE刻蝕PE刻蝕一體機(jī)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/11/18 14:22:25 對(duì)比
    反應(yīng)離子刻蝕機(jī)等離子刻蝕刻蝕機(jī)刻蝕設(shè)備
  • NMC-4000（A）全自動(dòng)PAMOCVD系統(tǒng)

    NMC-4000（A）全自動(dòng)PAMOCVD系統(tǒng)概述：NANO-MASTER針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/11/18 14:21:39 對(duì)比
    mocvdPA-MOCVDMOCVD設(shè)備PAMOCVD系統(tǒng)
  • SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)

    SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶(hù)獲得z干凈的晶圓片和掩模版...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/11/16 14:11:49 對(duì)比
    晶圓清洗設(shè)備晶圓清洗機(jī)硅片清洗設(shè)備硅片清洗機(jī)半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備
  • SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)

    SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶(hù)獲得干凈的晶圓片和掩模版。NAN...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/11/16 14:11:25 對(duì)比
    晶圓清洗設(shè)備晶圓清洗機(jī)硅片清洗設(shè)備硅片清洗機(jī)進(jìn)口全自動(dòng)清洗機(jī)
  • LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)

    LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶(hù)獲得z干凈的晶圓片和掩...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/11/16 14:11:00 對(duì)比
    晶圓清洗設(shè)備晶圓清洗機(jī)硅片清洗設(shè)備硅片清洗機(jī)半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備
  • LSC-5000全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)

    LSC-5000全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶(hù)獲得z干凈的晶圓片和...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2022/11/16 14:10:35 對(duì)比
    晶圓清洗設(shè)備晶圓清洗機(jī)硅片清洗設(shè)備硅片清洗機(jī)進(jìn)口全自動(dòng)清洗機(jī)
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