產(chǎn)品型號

SE-Mapping光譜橢偏儀

主要特點

1、全基片橢偏繪制化測量解決方案

2、支持產(chǎn)品設(shè)計以及功能模塊定制化，一鍵繪制測量

3、配置Mapping模塊，全基片自定義多點定位測量能力

4、豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫，保證強大數(shù)據(jù)分析能力

5、采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)

6、高精度旋轉(zhuǎn)補償器調(diào)制、PCRSA配置，實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集

7、具備全基片自定義多點自動定位測量能力，提供全面膜厚檢測分析報告

8、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料

技術(shù)參數(shù)

1、自動化程度：固定角+ mapping

2、應用定位：檢測型

3、基本功能：Psi/Delta、N/C/S、R等光譜

4、分析光譜：380-1000nm(可擴至193-2500nm)

5、單次測量時間：0.5-5s

6、重復性測量精度：0.01nm

7、光斑大?。捍蠊獍?-3mm,微光斑200um

8、入射角調(diào)節(jié)方式：固定角

9、入射角范圍：65°

10、找焦方式：手動找焦

11、Mapping1程：300x300mm

12、支持樣件尺寸：大至300mm

可選配件

3

真空泵

4

透射吸附組件